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二氧化(hua)硅(gui)研(yan)磨(mo)球采(cai)用二氧化(hua)硅(gui)石經切割、打磨(mo)和拋(pao)光等工藝制成(cheng)。形狀有(you)球型2、研(yan)磨(mo)前(qian),清洗(xi)瑪瑙珠和研(yan)磨(mo)機筒(tong)內壁(bi);3、先(xian)把需研(yan)磨(mo)的(de)物料裝(zhuang)入研(yan)磨(mo)機筒(tong)。

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新(xin)型(xing)CMP用二氧化硅研(yan)磨料(liao)娟劉玉嶺張建新(xin)摘(zhai)要:介紹(shao)化學機械拋(pao)光技術(shu)的重要性,找出影響其性能的關鍵因素即為研(yan)磨料(liao)。然(ran)后對常用的研(yan)磨料(liao)種類做概(gai)要論述,。

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2013年8月5日-納米(mi)二(er)氧化硅拋(pao)光(guang)液(ye)VK-SP30F又稱研磨膏(gao),切(qie)(qie)削液(ye),拋(pao)光(guang)漿,TEM下顯示50nm方形不(bu)規(gui)則片狀,表明切(qie)(qie)削力(li)強;ICP滴定結果顯示純度99.9%,純度高于國內同類產品,。

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[圖(tu)文(wen)]炭黑顏料(liao)研磨(mo)機高(gao)效(xiao)顏料(liao)研磨(mo)機工作(zuo)(zuo)原理:錐體(ti)磨(mo)(膠體(ti)磨(mo))是由(you)電(dian)動(dong)(dong)機通過(guo)皮(pi)帶傳動(dong)(dong)帶動(dong)(dong)轉齒(chi)(或(huo)稱(cheng)為轉子)與相配的定(ding)齒(chi)(或(huo)稱(cheng)為定(ding)子)作(zuo)(zuo)相對的高(gao)速(su)旋轉,被加工物(wu)料(liao)通過(guo)。

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