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本(ben)發(fa)明涉及(ji)到化(hua)(hua)學機械拋(pao)(pao)光(CMP)磨料粒子CeO↓〔2〕及(ji)其制備(bei)(bei)(bei)方法,屬于(yu)稀土粉體(ti)材料的化(hua)(hua)學制備(bei)(bei)(bei)技術領(ling)域。本(ben)發(fa)明是(shi)關于(yu)以鈰的無機鹽溶液利用均相沉淀劑制備(bei)(bei)(bei)得到CMP拋(pao)(pao)光。

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本發明(ming)涉及到化學(xue)機械拋光(CMP)磨料(liao)(liao)粒子CeO<sub;2</sub;及其制(zhi)備(bei)方法,屬于稀土(tu)粉體材料(liao)(liao)的化學(xue)制(zhi)備(bei)技術領域。本發明(ming)是關(guan)于以鈰的無(wu)機鹽溶(rong)液利用均相沉(chen)淀(dian)劑制(zhi)備(bei)得到。

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2013年10月16日-它在切(qie)(qie)深方(fang)面(mian)是的材料,私J用(yong)硅砂時(shi),沖擊(ji)物體(ti)的粒子數目(mu)是利(li)用(yong)鋼砂時(shi)的三倍,而其切(qie)(qie)割深度并(bing)無明顯差別(bie),這一事實表明,磨料粒子數目(mu)對(dui)。

前混合磨料水射流機理研究和實驗驗證-碩士論文-道客巴巴

[圖(tu)文]噴砂加(jia)工(gong)(gong)不(bu)同于研(yan)磨(mo)布及砥(di)石等(deng)磨(mo)擦(ca)加(jia)工(gong)(gong),被(bei)(bei)加(jia)工(gong)(gong)的磨(mo)料粒子(zi),直(zhi)飛(fei)空(kong)間打(da)擊物體表(biao)面(mian)施行加(jia)工(gong)(gong),被(bei)(bei)加(jia)工(gong)(gong)物體表(biao)面(mian)有相當程度的高低的時候,只(zhi)要(yao)粒子(zi)能(neng)飛(fei)到,能(neng)施行加(jia)工(gong)(gong)。又因(yin)。

化學機械拋光磨料粒子CeO2及其制備方法-查詢下載-中國應用

2013年7月4日-新興白剛(gang)玉特別提(ti)醒大家:使用過的磨(mo)料射流雖可以直(zhi)接回(hui)收到沉淀池內,但(dan)如(ru)果處理不當,回(hui)收裝(zhuang)置也(ye)是極易(yi)被磨(mo)料粒子(zi)擊穿的。因此,在使用磨(mo)料射流的過程(cheng)中。

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2011年8月2日(ri)-磨料(liao)篩分的個別大(da)粒問(wen)題(ti),將是伴隨磨料(liao)生產始終的問(wen)題(ti),永遠也(ye)不會徹底解(jie)決。為了解(jie)決這(zhe)個問(wen)題(ti),在(zai)這(zhe)里提出兩個辦法,有(you)熱心者不妨一試。

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磨(mo)料(liao)是一種(zhong)具有(you)高硬度(du)和一定機械(xie)強(qiang)度(du)的顆(ke)粒材(cai)料(liao),用(yong)于制造磨(mo)具或直接用(yong)于研磨(mo)和拋光。磨(mo)料(liao)有(you)天然(ran)磨(mo)料(liao)(金剛石、天然(ran)剛玉、石榴石、石英等(deng))和人工(gong)磨(mo)料(liao)(剛玉系列、碳化物。

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資(zi)源名稱涂(tu)料(liao)和有(you)關產品使(shi)用前(qian)鋼基片的制備(bei).金屬噴丸處理磨料(liao)的試驗方法.第5部分(fen):百(bai)分(fen)比的缺陷粒(li)子及微結構的測定(ding)數據標識符。

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噴砂時,安全事故的(de)(de)(de)隱患主要來自(zi)于噴嘴的(de)(de)(de)高速(su)磨(mo)料(liao)(liao)粒子流和氣流,操作者容易被氣流中的(de)(de)(de)磨(mo)料(liao)(liao)所傷(shang),噴槍的(de)(de)(de)噴嘴處壓力通常有O6~07MPa-磨(mo)料(liao)(liao)粒子的(de)(de)(de)噴射速(su)率可以達(da)到160。

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