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[圖文(wen)]研磨機(ji)廣(guang)泛用于(yu)光(guang)學(xue)晶(jing)體玻璃、光(guang)纖、模具、導光(guang)板、閥片、五金零部件,液壓密封(feng)件、LED藍寶石,陶瓷,不銹鋼等(deng)各種材(cai)料的單(dan)面研磨及(ji)鏡(jing)面拋光(guang)。

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本發明屬于光學元件表(biao)面(mian)加(jia)工(gong)技術(shu)領(ling)域,涉及光學研(yan)磨機(ji)及用其加(jia)工(gong)半導體用蘭寶石晶(jing)體基片的(de)方法(fa)。研(yan)磨機(ji)包括機(ji)架(jia),工(gong)作臺(tai)面(mian)板,一水盆,電機(ji)及其帶(dai)動的(de)一垂直轉動軸(zhou),該。

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光學研磨機及用其加工半導體用蘭寶石晶體基片的方法

供(gong)應供(gong)光(guang)學(xue)玻璃(li)及(ji)石英(ying)_機械及(ji)行業設備,價格:180000.00元/臺,品(pin)牌:偉隆,型號(hao):16B,產品(pin)別名:雙(shuang)面(mian)研磨機,用途:供(gong)光(guang)學(xue)玻璃(li)及(ji)石英(ying)晶體研磨、拋光(guang)平面(mian)和曲面(mian)之(zhi)用,適用。

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本文(wen)以有機非線性光學(xue)晶體二苯甲(jia)酮(tong)為對象,在(zai)試驗的(de)基礎上探討了軟質、脆性且低熔(rong)點有機晶體的(de)切割、研(yan)磨和(he)拋光方法。二苯甲(jia)酮(tong)(Benzophenone)又(you)稱苯酰酮(tong),其(qi)。

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軟質脆性且低熔點的有機晶體加工-晶體,金剛石,電鍍,技術前沿-機電

藍(lan)(lan)寶(bao)石晶(jing)體雙(shuang)面研磨(mo)均勻(yun)性亞表層損傷摘要(yao):為了實現對(dui)藍(lan)(lan)寶(bao)石晶(jing)體的高(gao)效低損傷研磨(mo)加工,對(dui)藍(lan)(lan)10偉冰;雙(shuang)面高(gao)速研磨(mo)機研制[D];長春(chun)光學精密機械學院。

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樣(yang)品(pin)為配位聚合物晶體拿(na)晶體樣(yang)品(pin)壓平后(hou)直接做粉末XRD,得(de)到(dao)(dao)圖譜a;將(jiang)樣(yang)品(pin)稍(shao)微研(yan)磨后(hou),再做粉末XRD,得(de)到(dao)(dao)圖譜b;然后(hou)將(jiang)樣(yang)品(pin)劇烈研(yan)磨,做粉末XRD,得(de)到(dao)(dao)圖譜c三(san)個圖譜完全不。

藍寶石晶體的雙面研磨加工-《光學精密工程》2009年10期

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前言:本發(fa)明屬于光學元件表面加工技(ji)術(shu)領域(yu),涉及光學研磨(mo)機及用(yong)其加工半導體用(yong)蘭寶石晶體基片的方(fang)法。研磨(mo)機包括機架,工作臺(tai)面板,一(yi)水盆,電機及其帶動(dong)的一(yi)垂直轉(zhuan)動(dong)。

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雙面研磨機-搜搜百科

用(yong)制備的(de)粒徑(jing)分別為(wei)50nm和300nm的(de)SiO2拋(pao)光(guang)液對(dui)鈮(ni)酸鋰晶體樣品進行化學(xue)機械拋(pao)光(guang),研(yan)究了壓力、拋(pao)光(guang)盤速度、拋(pao)光(guang)液流量及(ji)時間對(dui)拋(pao)光(guang)過程(cheng)的(de)影響。拋(pao)光(guang)結果表明:采用(yong)粒徑(jing)。

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[圖文]HJ-雙面(mian)平磨機本機廣(guang)泛(fan)應用于光學玻璃、石英晶體(ti)、陶(tao)瓷、硅(gui)片等(deng)行(xing)業(ye)1.本機主(zhu)體(ti)采用一(yi)次成型工藝,合理的結構大大提升。

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本(ben)(ben)機廣泛應用(yong)于光學(xue)玻(bo)璃、石英(ying)晶(jing)體、陶(tao)瓷、硅片等(deng)行業1.本(ben)(ben)機主體采用(yong)一次成型工藝,合(he)理的(de)結構大大提升整機剛性度2.提供優質的(de)傳動系統,運行高(gao)效(xiao)穩定(ding),噪音(yin)小3.驅(qu)動。

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